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通知公告
关于召开ICMtia—PALL联合技术讲座的通知
发布时间:2017-12-19 作者:ICMtia

在半导体芯片制造及平板显示制造工艺中,如何减少和控制“缺陷及污染”是大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染成因复杂,不仅对芯片制造工艺的研发进程、成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量材料和设备的厂商所面临的一大技术挑战。基于此集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟联合美国Pall公司组织召开缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用技术讲座,本次讲座名额有限,请报名者务必参加会议,欲报从速。会议具体安排如下:

讲座主题:缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用

培训讲师:黄丕成   David Huang,Ph.D(美国颇尔公司副总裁/ICMtia专家咨询委员会特聘专家)

讲座时间:2018年3月8日(周四/全天)

会议地点:北京市丽亭华苑酒店

培训费用:1200元/人(联盟成员单位优惠价),2000元/人(非联盟成员单位价格),费用包括:全天课时费 + 培训讲义费 + 工作午餐

联系人:邓希,dengxi@icmtia.com,13810427396

报名方式:请于2018年1月22日之前将下述报名表发送会议联系人dengxi@icmtia.com,过期不再保留名额。报名学员经审核通过后,会务组将于收到回执三天内以邮件或短信方式通知本人。

技术讲座报名表

单位名称

 

姓名 

 职务

负责业务 

手机号码 

电子邮箱

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ICMTIA-PALL联合技术讲座 – 缺陷控制&过滤技术在半导体高科技工业中的应用

 

 

讲师:黄丕成 博士, David Huang, Ph.D  david_huang@pall.com   

颇尔 Pall Corporation副总裁 / ICMtia专家咨询委员会特聘专家)

 

【关于讲座】

 

讲座简介重点怎样减少和控制 缺陷及污染“, 这是个在半导体晶片及平板显示制造中大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染的成因复杂,和具体的工艺应用条件关系紧密,去除或控制难度大。它不仅对晶片制造工艺的研发进程,成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量的材料和设备的厂商一大技术挑战。

本课程讲解过滤技术在高科技(包括半导体及平板显示)中的应用。过滤技术的分类,半导体制造路线图及对缺陷和污染的要求。这里,会讨论缺陷的来源,分类控制及预防对重金属离子污染的成因,污染对晶片性能造成的影响,去除污染物对提高成品率的作用,来认识过滤技术对高科技制造业的重要性及紧迫性通过对缺陷和污染的成因分析,应用高端过滤技术减少缺陷污染,提高半导体耗材质量,提供高端材料;加快晶片制造工艺研发,提高晶片成品率过滤在半导体及平板显示减少缺陷及污染的应用包括:使用的原料,光刻,蚀刻,精磨及清洗等工艺

为了帮助学生更好的了解及应用过滤技术我们也将讨论过滤理论,包括气体,液体过滤,金属杂质的去除。作为过滤的核心技术,我们也将讨论过滤膜以便了解其材料性质和与其化学材料的兼容性。介绍过滤器的组装测试及流体力学原理。最后简介过滤产品,包括颇尔过滤器的选择和应用。

 

你会学到什么

1. 半导体及平板显示市场走向

2. 半导体及平板显示制造路线图,对缺陷及污染的要求

3. 缺陷及污染的成因,来源及分类

4. 纳米颗粒的去除

5. 金属离子的成因,污染及控制

6. 过滤膜材料性质及其化学材料兼容性

7. 过滤机理,过滤器组装

8. 过滤器选择及应用

 

适宜听众参与电脑晶片及平板显示制作及提供耗材设备的技术员,工程师,技术经理及高校研究生。

 

日程 一天上午 / 过滤在减少和控制缺陷的应用;下午 / 过滤技术基础及过滤器的选择

 

Program    内容 

Morning    上午

General Introduction     简介

· Filtration and High Tech Industries     过滤与高科技

· Classification of Filtration     过滤的分类

· High Tech Industry Market and Future Trend     高科技与将来发展趋势

· Roadmap for Semiconductor & Flat Panel Display    半导体及平板显示制造路线图

Defect Control and Yield Improvement     缺陷的控制与成品率的改善

· Particle Defect    固体颗粒缺陷

· Metal Contamination     金属污染

· In-coming Material Defect     进料缺陷

· Process Defect   工艺缺陷

· Defect and Yield      缺陷与成品率

For Semiconductor Manufacturing     过滤在半导体制成中的应用

· Chemical Solutions    化工液体材料

· Lithography      光刻

· Wet Etch Clean     湿蚀,清洗

· CMP     化学机件抛光

· Gas Purification     气体净化

For Flat Panel Display     过滤在平板显示制成中的应用

· Chemical & Solutions    化工液体材料

· Lithography      光刻

· Wet Etch Clean     湿蚀干净

Digital Printing      过滤在数字印刷中的应用

· Degas   去气体

· Particulate Removal     去固体颗粒

 

Afternoon     下午

Filtration Technology    过滤技术

· Air Filtration    空气·过滤

· Liquid Filtration     液体过滤

· Heavy Metal Removal     重金属离子分离

Filter Media     过滤介质及过滤机理

· Membrane     过滤膜

· Fiber    纤维

· Metal media     金属介质

· Inorganic Media   无机介质

· Membrane Surface Modification     过滤膜表面处理

Filter Device     过滤器

· Work Flow     制作工艺流程

· Flow Dynamics    流体力学

· Filter Characterization     过滤器检测

 

Pall Products & Applications     颇尔过滤产品及运用

· Wet Processing     湿法工艺

· Gas Purification     气体净化


 

【关于讲师】

 

  黄丕成 博士 -- 美国颇尔公司副总裁

   技术服务部; 半导体材料与工艺专家

 

 

 

 

黄丕成博士现任颇尔公司副总裁,技术服务部。曾任高级全球研发总监,负责新产品开发用于半导体,太阳能,平板电视生产制作工业。加入颇尔之前,曾任普莱克斯公司CMP研发总监。希捷,英特尔公司主任/高级工程师。黄博士二十来年长期任职于世界500强公司,从技术骨干到高管,拥有丰富的一线半导体晶片制作工艺,耗材研发及科研管理经验。黄博士也曾有过八年的材料基础科学研究的经历,曾任职于意大利国家科学院材料所,美国加州伯克利劳伦斯实验室。

 

黄博士获得美国加州伯克利大学材料科学工程博士,曾在麻省理工学院及澳大利亚科学院学习新产品开发及工程管理,2000年在英特尔公司工作时曾获得英特尔成就奖(IAA,英特尔颁发给有重大贡献的职工)。他获得多项用于半导体晶片,硬盘及半导体工业耗材制作的专利,发表多篇学术论文, 国际会议主旨演讲。他曾任中国半导体国际技术年会(CSTIC)及中国太阳能国际技术年会(CPTIC)主席,也曾但任过有关美国学术会议委员

 

颇尔公司官网:http://pall.biogo.net/ (中文)      https://www.pall.com (English)