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“缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用”讲座在北京成功举办
发布时间:2018-03-12 作者:

2018年3月8日,由集成电路材料和零部件产业技术创新战略联盟(以下简称”联盟”)联合美国Pall公司组织召开“缺陷控制&过滤技术在半导体及高科技工业中的应用”技术讲座,本次讲座特邀请联盟专家咨询委员会特聘专家、美国Pall公司副总裁David Huang 黄丕成博士担任讲师,来自江苏德纳化学、浙江博瑞、浙江凯圣、有研亿金、中化蓝天、湖北晶星、河北工业大学、多氟多、南大光电、北京凯易信等公司共计四十余人参加了本次讲座。

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材料和零部件联盟秘书长石瑛会前讲话

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讲师与学员互动热烈

在半导体芯片制造及平板显示制造工艺中,如何减少和控制“缺陷及污染”是大家必须面对的棘手技术难题。缺陷和污染成因复杂,不仅对芯片制造工艺的研发进程、成品率有着重大影响,也是为半导体行业提供高质量材料和设备的厂商所面临的一大技术挑战。黄博士针对上述行业难点并结合自身丰富的行业经验,对半导体及平板显示业市场走向、路线图、对缺陷及污染的要求,缺陷及污染的成因、来源及分类,金属离子的成因、污染及控制,过滤膜材料性质及化学材料兼容性,过滤器的选择及应用等方面做了深入浅出的讲解与分析,讲座的最后,黄博士还针对学员们提出的诸多技术上的困惑和难题做了细致的解答,现场气氛融洽,讲师与学员之间互动热烈。

课后学员们表示受益匪浅,本次技术讲座既有效的推广普及了缺陷控制知识,提高了对过滤技术在高科技制造业的重要性及紧迫性的认识,也对拓宽自己的行业知识面起到了积极的作用。

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技术讲座全员合影留念