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简介
鉴于化学机械平坦化(CMP)技术在半导体工艺和超精密制造中得到越来越广泛的应用,随着半导体制造特征线宽的进一步缩小和超精密加工技术发展,CMP工艺的重要性更加凸显,且面临着工艺技术、关键装备和工艺材料的多重技术挑战,产业技术发展呼唤工艺、装备、材料的全产业链紧密合作。另一方面,平坦化技术国际会议(International Conference on Planarization Technology-ICPT)也与主要国家和地区的平坦化技术委员会(CMP Users Group)合作致力于在全球促进CMP技术交流与推广应用。为促进我国CMP技术发展并与国际I... 详细>>
活动预告

ICPT2016已于201610月17-19日在北京友谊宾馆举行,由平坦化技术联盟(CMPUG-CN)主办,会议官网:www.icpt2016.com

海峡两岸CMP论坛
2015年中国平坦化技术大会暨海峡两岸平坦化技术论坛    2015-04-24
ICPT2016

2016国际平坦化技术大会已于2016年10月17-19日在北京友谊宾馆圆满举行。